이 공장에서는 SK하이닉스 최초로 EUV(극자외선) 노광 장비가 도입돼 미세공정 기술이 구현된다.
SK하이닉스는 1일 경기도 이천 본사에서 M16 준공식을 개최했다. ‘We Do Technology 행복을 열다’라는 주제로 열린 이 날 준공식은 코로나19 방역 수칙을 준수하기 위해 그룹 내 행사로 간소하게 진행됐다.
최태원 SK그룹 회장, 최재원 수석부회장, 조대식...
회사 측은 "EUV를 올해 1a 나노에 적용하고 본격적으로는 1b 나노부터 적용 예정"이라며 "이미 노광 장비를 확보하고 있고, 개발 양산 계획에 따른 EUV 확보 방안에 대해서 장비 밴더와 긴밀히 협의하고 있다"고 설명했다.
특히 올해에는 D램에 편중된 매출비중 한계를 넘겠다는 각오다. 이를 위해 낸드 시장에서 경쟁적으로 점유율을 높여...
EUV 노광 장비가 도입돼도 기존 공정 장비 수요 증가 지속
김경민 하나금투
현대건설
4분기 실적: 해외 비용 선반영, 영업이익 컨센서스 하회
연내 주택공급목표 크게 증가, 하반기 해외 공정 회복 기대
투자의견 매수 및 목표주가 5만2000원 유지
윤승현 하나금투
러셀
파운드리, 로봇 자동화 중소형 최대 수혜주
반도체 중고 장비와 로봇 자동화...
에스티아이는 이번 수주에서 세정, 노광, 현상 공정 장비를 맡아서 진행한다.
에스티아이 관계자는 “이번 포토트랙시스템 장비 수주는 당사 내에서 최초 수주”라며 “이는 기존 C.C.S.S(중앙약품 공급시스템)와 WET SYSTEM(세정/식각/현상 시스템) 위주 매출 구조에서 벗어나 매출 다각화를 실현한 것”이라고 말했다.
이어 “향후 관련 레퍼런스를 기반으로...
5나노(㎚·10억분의 1미터) 극자외선 노광장비(EUV)를 이용해 생산되는 신제품은 초당 26조 번 이상의 인공지능 연산 성능을 갖췄고, 중앙처리장치(CPU), 그래픽처리장치(GPU) 성능이 이전 제품(엑시노스 990)보다 각각 30%, 40% 이상 향상됐다.
삼성전자는 반도체 설계업체 ARM과 협력해 ‘엑시노스 2100’의 설계를 최적화해 성능을 개선했다고 설명했다. 고성능...
TSMC의 견제에 대응하기 위해 이재용 삼성전자 부회장은 최근 네덜란드 ASML 본사를 직접 방문, EUV 장비 공급 협조를 구하기도 했다. EUV 노광은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 7나노 이하 최첨단 반도체 생산을 위해 필수다. ASML은 첨단 반도체 생산에 필요한 EUV 노광기를 세계에서 유일하게 생산하고 있다.
노광기는 대당...
노광기는 1500억 원을 웃도는 초고가 장비이지만, 삼성전자와 TSMC는 파운드리 시장 확대를 위해 치열하게 ASML 장비 확보전을 펼치고 있다. ASML에서 한 해 생산할 수 있는 EUV 노광기는 40여 대 수준인 것으로 알려져 있다.
이 부회장이 직접 ASML을 방문한 것 자체가 삼성전자가 EUV 노광기 확보에 얼마나 심혈을 기울이고 있는지를 잘 보여준다.
삼성전자와 ASML은...
네덜란드 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비가 없다면 삼성, TSMC는 첨단 칩을 만들 수 없다. 미국 정부는 연초 ASML이 SMIC에 반도체 장비를 판매하지 못하도록 네덜란드 정부에 압력을 가했고, 결국 그렇게 됐다.
다만 중국 반도체 부문이 전부 암울한 것은 아니다. 전문가들은 중국이 거대한 시장이어서 자국 벤더들이 국내 수요만으로도 생존하기에 충분하다고 강조하고...
국내 반도체 생태계 강화 및 차세대 반도체 기술 경쟁력 확대를 위해 소재ㆍ부품ㆍ장비 협력사에 힘을 보태는 모양새다. 특히 이재용 부회장이 강조해온 '상생'과 '동행' 비전에 따른 것으로도 해석된다.
31일 코스닥 업체 에스앤에스텍과 와이아이케이는 삼성전자에 제3자 배정 유상증자를 결정했다고 밝혔다. 유상증자 규모는 각각 659억3300만 원과 473억3600만...
포토레지스트는 빛의 노출에 반응해 화학적 성질이 바뀌는 감광액으로 반도체 웨이퍼 위에 정밀한 회로 패턴을 형성하는 ‘노광 공정’에서 쓰이는 핵심 소재다. 반도체 고집적화에 따라 극미세한 패턴 구현이 요구되고 3D 낸드의 적층 경쟁이 심화되면서 수요가 지속적으로 증가하고 있다.
앞서 SK머티리얼즈는 지난 2월 금호석유화학의 전자소재사업을...
반도체 웨이퍼 위에 포토레지스트(감광액)를 바르고 노광 장비로 빛을 쏘면 빛의 노출에 반응해 화학적 성질이 변하면서 회로 패턴이 새겨진다. SOC는 포토레지스트 보조재로 패턴이 무너지지 않게 보호해 주는 소재이며 불화아르곤 포토레지스트는 포토레지스트의 일종으로 두 제품 모두 초미세 패턴 형성에 쓰이는 대표적 고부가 제품이다.
불화아르곤...
EUV 노광장비 ASML, EUV 마스크 호야, EUV 마스크 제조 장비 비코 인스트루먼츠, 마스크 검사 장비 레이저테크, EUV 포토레지스트 JSR 등이 해외 관련 업체”라고 덧붙였다.
또 “국내 비메모리 관련 장비 기업은 증착장비 원익IPS, Gas Phase Etching 장비 테스, Asher 피에스케이, FOUP 세정장비 디바이스이엔지, 세정 및 코팅사업 코미코, 블랭크마스크 에스앤에스텍...
파운드리는 업계 최초로 극자외선 노광장비인 EUV(Extreme Ultra Violet)를 적용한 7나노를 양산했고, 1억 화소 해상도의 이미지센서와 eMRAM(embedded Magnetic Random Access Memory, 내장형MRAM) 솔루션을 상용화했다.
시스템LSI는 5G 모뎀 상용화 등 SoC(System on Chip) 기술 리더십을 확고히 하고, 중국 시장 진입을 통한 글로벌 사업 확대의 기반을 마련했다. 또한...
EUV 노광 기술은 짧은 파장의 극자외선으로 세밀하게 회로를 그릴 수 있어 7나노 이하 초미세 공정을 구현할 수 있다. 이는 급증하는 정보를 처리할 수 있는 고성능 저전력 반도체를 만드는데 필수적인 기술이다.
인프리아는 EUV 공정의 필수 소재인 포토레지스트를 전문적으로 개발하고 있다. 2017년에 7나노미터 공정 이하 미세공정에서 EUV 노광 공정을 지원할...
이를 통해 기존의 디스플레이용 노광장비로도 현재 만들 수 있는 크기의 100분의 1 수준에 해당하는 수십 나노미터의 초미세 패턴을 구현할 수 있게 했다.
LG디스플레이 관계자는 "유연한 재질의 마스크는 휘어진 기판에도 적용 가능해, 다양한 형태의 디스플레이 생산에 이바지할 가능성이 기대된다"고 설명했다.
본 논문의 공동 저자인 LG 디스플레이...
포토레지스트는 빛의 노출에 반응해 화학적 성질이 바뀌는 감광액으로 반도체 웨이퍼 위에 정밀한 회로 패턴을 형성하는 ‘노광 공정’에서 쓰이는 핵심 소재다.
반도체 고집적화에 따라 극미세한 패턴 구현이 요구되고 3D 낸드의 적층 경쟁이 심화되면서 수요가 지속적으로 증가하고 있다. 글로벌 포토레지스트 소재 시장은 현재 약 3조5000억 원 규모로 향후 높은...
김 연구원은 "또 내년 미국, 중국, 일본에서 5G 가입자 경쟁 치열해 질 것으로 예상되나, EUV를 노광장비로 사용하는 '하이엔드파운드리'는 TSMC와 삼성전자만 공급할 수 있다"며 "삼성전자는 메모리 반도체, 시스템반도체, 하이엔드파운드리, 5G 스마트폰, 통신장비, 플렉시블 OLED 등 최고의 포트폴리오를 보유했다"고 짚었다.
7일 일본 니혼게이자이 신문에 따르면 ASML은 중국 최대의 파운드리 업체인 국영 SMIC에 올해말까지 제공하기로 했던 EUV(극자외선) 노광장비 납품을 보류하기로 했다.
EUV 노광장비는 ASML이 독자 개발해 독점 생산하고 있어 현재로서는 대체가 불가능하다.
EUV 노광장비는 기존에 사용되던 불화아르곤보다 반도체 웨이퍼에 미세한 회로를 그리는 데 적합해...
최근 ArF 노광장비를 들여놓으며 ArF용 PR 자체 테스트 역량을 확보한 동진쎄미켐은 포토레지스트, CMP 슬러시, CMP 패드 등 주력 반도체 소재를 전시한다.
이 외에도 세계 최고 반도체장비 기술력을 갖고 있는 원익IPS(ALD), 이오테크닉스(레이저마커), 엑시콘(SSD Tester), SK실트론(300mm 웨이퍼) 등 초미세공정과 3차원 소자 공정에 적합한 반도체 생산 소재...