비아트론, ‘KEIT 산업원천기술개발사업’ 주관기관 선정

입력 2014-05-28 09:53
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비아트론은 ‘2014년도 KEIT 산업원천기술개발사업(디스플레이)’의 주관기관으로 최종 선정됐으며, 전자부품연구원(KETI)·중앙대학교·한양대학교·서울대학교와 함께 기술개발에 나선다고 28일 밝혔다.

이번 사업의 수행기간은 오는 6월1일부터 2017년 5월31일까지 총 3년이며, 총 사업비는 30억원이다. 디스플레이 분야의 최신기술인 ‘대면적 저온 TFT 공정용 가시광 대역 광소결 기술’을 개발하게 된다.

회사 관계자는 “해당 기술은 낮은 생산비용으로 고성능 산화물 TFT 제조가 가능하도록 하는 것이 가장 큰 목표”라며 “이는 차세대 디스플레이의 원천 기술 개발 시점을 앞당길 수 있을 뿐만 아니라 미래 디스플레이 산업을 계속 주도할 수 있는 계기가 될 것으로 기대하고 있다”고 말했다.

해당 기술은 단기적으로는 기존 디스플레이 업계에서 사용하고 있던 고진공·고열 성막 공정을 저온 상압 공정으로 바꿀 수 있어 우수한 가격 경쟁력 확보가 가능하다. 또 장기적으로는 연속 인쇄 공정을 사용한 디스플레이 개발에 핵심 요소기술로 작용하여 국내 반도체·디스플레이 분야뿐만 아니라 미래 플렉서블 전자기기 분야 등의 산업성장도 견인할 수 있을 것으로 예상된다.

이와 함께 최근 각광받는 산화물 반도체는 기존 비정질 실리콘 반도체(a-Si TFT)에 비해 이동도가 높아 미래 디스플레이 핵심 기술로 각광받고 있다. 특히 광조사 기술을 사용하면 상온에서도 높은 성능을 확보할 수 있어 플라스틱 기판을 사용하는 플렉서블 디스플레이에도 적용이 가능할 전망이다.

김형준 비아트론 대표는 “미래 디스플레이 기술 개발에 비아트론이 주도적인 역할을 할 수 있는 기회”라며 “이번 기술 개발을 성공적으로 마무리해 비아트론의 발전은 물론 국가의 발전에도 이바지할 수 있도록 최선을 다하겠다”고 밝혔다.

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