경쟁사 입사 위해 반도체 기술 빼돌린 전직 삼성전자 직원, 2심 실형

▲서울고등법원. (게티이미지뱅크)

삼성전자의 반도체 기술을 빼돌린 40대 남성이 2심에서 실형을 선고받고 법정 구속됐다.

17일 법조계에 따르면 서울고등법원은 14일 삼성전자의 반도체 기술을 빼돌려 재판에 넘겨진 전직 반도체 엔지니어 최모 씨(44)에게 징역 1년6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만 원을 선고한 원심을 파기했다. 최 씨는 징역 1년6개월과 벌금 1000만 원의 실형을 선고받고 법정구속됐다.

최 씨는 해외 반도체기업 입사를 위해 삼성전자의 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가핵심기술 및 영업비밀 등 33개 파일을 이메일로 링크한 뒤 외부에서 이를 열람하면서 사진 촬영하는 방식으로 부정 취득·유출한 혐의를 받는다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(이성범 부장검사)는 1심에서 최 씨에게 징역 5년과 벌금 1억 원을 구형했다. 그러나 1심 재판부는 3월 31일 최 씨에게 징역 1년6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만 원을 선고했다.

검찰은 1심 판결에 불복해 항소했다. 2심인 서울고등법원은 이달 14일 원심판결을 파기하고 징역 1년6개월에 벌금 1000만 원의 실형을 선고, 피고인을 법정 구속했다.

2심은 “검찰의 항소를 받아들여 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 취득·유출한 범죄의 중대성, 범행의 내용, 수법에 비추어 피고인의 죄책이 무거움에도 피고인이 공판 과정에서 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 아니한 점 등을 고려해 피고인에게 실형을 선고했다”고 밝혔다.

검찰은 “앞으로도 국가핵심기술 및 영업비밀 유출 사범에 신속, 엄정히 대응하고 죄에 상응하는 처벌이 이루어질 수 있도록 노력하겠다”고 밝혔다.