반도체 펠리클 기업 에프에스티(FST)가 개발 중인 극자외선(EUV) 펠리클의 가시적 성과가 나오는 것으로 확인됐다. 순조롭게 개발이 이뤄지면 새로운 먹거리 사업으로 도약할 전망이다.
29일 에프에스티 관계자는 "다년간 개발해온 EUV 펠리클 기술의 여러 기술력을 축적해 가시적 성과가 나오고 있다"고 말했다.
펠리클은 웨이퍼에 반도체 공정 중 '노광
CTT리서치는 4일 파크시스템스에 대해 전공정에 이어 후공정에서도 수요 증가로 매출 다변화 기대되며, 하반기 산업용 매출 증가가 중요한 핵심이 될 것이라고 분석했다.
CTT리서치에 따르면 원자 현미경을 개발, 생산하며 산업용과 연구용을 판매하는 기업이다. 매출 비중은 산업용 72%, 연구용 22%, 기타 6% 순서이며, 91%가 해외에서 발생하고 있다
CTT리서치는 국내 반도체 장비사 에프에스티에 대해 극자외선(EUV) 펠리클 국산화가 얼마 남지 않아 EUV 펠리클 양산을 바탕으로 큰 폭의 실적 향상이 예상된다고 12일 밝혔다. 에프에스티는 2021년 삼성전자가 기술 협력 개발을 위해 430억 원을 투자한 국내 토종 반도체 장비업체다. 작년 말 삼성전자가 보유 중인 에프에스티 지분은 약 7%다.
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반도체·디스플레이 제조공정 부품기업 에스앤에스텍이 지난해 전방 산업의 불황에도 매출액과 영업이익이 모두 성장하면서 시장을 확대하고 있다. 주력 제품인 블랭크마스크는 일본 업체들의 독과점 시장에서 서서히 점유율을 늘리고 있다.
5일 본지 취재를 종합하면 에스앤에스텍의 지난해 실적 성장은 디스플레이 관련 매출 증가에 따른 것이다.
에스앤에스텍의 지난해
CTT리서치는 3일 에프에스티에 대해 삼성전자 내 펠리클 시장점유율(M/S) 80%라는 압도적인 숫자를 유지하고 있으며, EUV 펠리클 개발을 위해 전략적인 협력을 지속 중으로 내년 3분기부터 본격적인 양산이 시작될 것으로 전망했다.
에프에스티는 반도체와 디스플레이 노광 공정에서 마스크를 보호하기 위한 펠리클, 식각, 에칭, 증착 등의 온도를 일정하게
특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발 추진에 힘입어 글로벌 기업과의 협력 방안을 논의한다고 28일 밝혔다.
국일그래핀은 지난달 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구 중이다.
펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에
특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 국내외 업체와 협업을 통해 현재 그래핀 기반 펠리클(Pellicle) 부품 개발에 나선다고 11일 밝혔다.
펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품으로 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 펠리클은 EUV(극자외선) 장비에서 높은 투명
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4Q20 Preview: 조금씩 회복되는 중
단기 실적 부진 지속되고 있으나, 턴어라운드 기대감은 유효
2021E 매출액 +10%, 영업이익 +154% 전망. 화장품과 국내 의류가 증익 견인 기대
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대표적인 사업 브랜드인 Lab2G
삼성전자가 전일 컨퍼런스콜을 통해 첨단 EUV(극자외선) 인프라 구축을 반도체부문 차세대 성장동력으로 구축하겠다고 밝혔다. 이와 동시에 펠리클 제조업체 에프에스티의 주가가 상승세다.
에프에스티는 전일 종가 기준 4.15% 오른 4265원에 거래를 마쳤다. 장중 주가는 16% 오른 4750원까지 치솟았다. 이 회사는 EUV 생산공정에서 핵심부품으로 알