진입, EUV용 진공 펌프 국산화 등이 상승 모멘텀으로 작용 전망
박유악 키움증권
◇종근당
1분기 매출액 3569억 원, 영업이익 325억 원 전망
올해 매출에 가장 큰 우려는 자누비아, 케이캡 매출 감소
그럼에도 프롤리아, 리피로우, 큐시미아 등 타 제품 및 상품 영업 강화해 매출 공백 매울 것으로 예상
이나경 흥국증권
◇클리오
1분기 매출액 750억 원, 영업이익...
해당 품목에는 극자외선(EUV) 관련 제품 제조장치, 기억 소자를 입체적으로 쌓아올리는 에칭 장치 등이 포함된다. 수출하려면 경제산업상의 허가가 필요해 사실상 수출을 금지한 것이다.
니시무라 야스토시 경제산업상은 기자회견에서 특정 나라를 염두에 둔 것은 아니라고 밝혔다. 닛케이는 “우호국 등 42개 국가·지역을 제외하면 수출할 때 개별 허가가 필요해...
김양택 첨단소재투자센터장은 “반도체 소재 분야는 CIS(광신호를 이미지로 변화하는 반도체)용 컬러소재, EUV(극자외선) 포토 소재, 어드밴스드 패키징(Advanced Packaging) 소재 영역으로 확장할 예정”이며 “배터리 소재는 차세대 양극재 및 음극재와 리튬메탈 배터리, 탄소나노튜브 등 차세대 소재를 육성하겠다”고 말했다. 또, “전력반도체 분야 200mm SiC(실리콘...
EUV 포토레지스트의 대일 의존도 50% 이하로 낮아졌으며, 100대 소부장 핵심 전략기술 관련 수입액 중 일본 비중은 2018년 32.6%에서 지난해 21.9%로 10.7%p 감소했다.
기업분석 전문 한국CXO연구소는 16일 발표한 보고서에서 국내 전자업종 상위 100곳의 매출이 2019년 271조3000억 원에서 2021년 352조5000억 원으로 약 30% 증가했다고 밝혔다. 같은 기간 100대 전자업체의...
그는 “마스크 리페어 장비는 초미세 극자외선(EUV)용 마스크의 소프트에러(Soft Error)를 감지‧복원하는 장비로, 기존 원자현미경(AFM) 장비 대비 고수익성 제품”이라며 “올해 출하의 본격적인 성장이 기대되며, 올해 파크시스템스의 영업이익 내 20% 비중까지 상승할 것”이라고 봤다.
ASML은 반도체 생산의 가장 중요한 공정인 극자외선(EUV) 노광장비(반도체 기판에 설계대로 집적회로를 프린팅하는 장비)를 전 세계에 유일하게 공급하는 반도체 장비 분야 1위 기업이다. 연 매출은 약 212억 유로(한화 약 29조 원)에 달한다.
ASML은 지난해 11월 기공식 및 기자간담회를 통해 경영센터, 재제조 센터, 글로벌 트레이닝 센터, 체험관 등이 포함된...
네덜란드 정부는 2019년부터 ASML이 중국에 최첨단 극자외선(EUV) 노광장비를 수출하는 것을 금지했지만, 이전 세대인 DUV 노광장비에 대해선 수출을 허용해왔다. 이번에 DUV까지 제재에 포함시키면서 올여름 이전에 수출 규제를 적용하겠다고 분명히 밝혔다.
미국은 지난해 대중국 반도체 수출 규제를 강화하면서 장비 대국인 네덜란드와 일본의 동참을 압박했다. 올해...
슬러리와 EUV 관련 소재 매출 기대
EUV 공정 확대와 국산화 수혜 기대감 유효
김록호 하나증권 연구원
◇원익머트리얼즈
탐방노트
2022년 Review: 희귀가스 가격 상승으로 최대 매출 달성
2023년 Preview: 하반기 업황 회복과 신제품 공급에 주목
사상 최대 실적과 실제 주가 사이 괴리 큰 상황
변운지 하나증권 연구원
◇에코프로비엠
판매량 강세와...
연구원
◇에프에스티
EUV용 펠리클 국산화 선도 기업
펠리클 및 칠러 장비 제조사
EUV용 펠리클 국산화 성공 시 독보적인 수혜 기대
2023년 FPD용 펠리클 수요 증가로 반도체향 제품 부진 상쇄
이새롬 한국IR협의회 연구원
◇테스
장비 매출 다변화의 시작
반도체 전공정 PECVD 장비 업체
신규 장비와 비메모리 반도체로 장비 매출 다변화
2023년 고객사 CAPEX 축소로...
실제로 SK하이닉스는 중국 공장에 극자외선(EUV) 장비 반입을 시도하다 미국의 반대로 무산된 바 있다. 컨설팅업체 욜인텔리전스에 따르면 SK하이닉스 D램 생산량의 50%가량이 중국에서 나오는 것으로 알려져 있다.
여기에 최근 일본과 네덜란드가 미국의 요구대로 대중국 반도체 수출 통제에 동참하기로 하면서 국내 반도체 업계로서는 부담이 더욱 커졌다. 네덜란드...
김 연구원은 “올해 삼성전자 설비투자(capex)는 53조 원으로 전년과 유사할 것으로 예상되고, 공급과 무관한 EUV·인프라·R&D 등 미래 투자로 책정돼 올해 메모리 설비투자는 사실상 전년대비 13% 감소할 전망”이라며 “특히 KB증권 퀀트팀 (Quant Team)에 따르면 삼성전자와 같이 팬데믹 이후 불확실성 속에서도 capex 규모가 큰 기업의 주가 수익률이 미래...
SK하이닉스는 1일 4분기 실적 발표 후 진행된 콘퍼런스콜에서 "당사는 EUV(극자외선 노광장비) 장비의 높은 투자비용과 관련 기술의 성숙이 계속되고 있는 상황을 감안해 EVU 적용의 효율성을 극대화하는데 포커스 해왔고 현재는 업계 최고 수준의 EUV 생산성을 확보했다"고 밝혔다.
그러면서 "EUV 적용을 어디까지, 얼마나 적용한다고 할 수 있는...
삼성전자는 지난해 메모리반도체의 경우 평택 3, 4기 인프라와 미래 경쟁력 강화를 위한 EUV(극자외선) 노광장비 등 첨단 기술 적용 확대, 차세대 연구 개발 인프라 확보를 위한 투자를 했다. 파운드리는 평택 첨단 공정 생산 능력 확대와 미래 수요 대응을 위한 3나노 초기 생산 능력과 미국 테일러 공장 인프라 구축에 투자를 집중했다.
SDC는 중소형 플렉시블...
ASML코리아 이우경 대표는 “세계적인 경기 침체와 글로벌 인플레이션 가속화로 시장 불확실성이 존재하지만, ASML의 극자외선(EUV)과 심자외선(DUV) 노광 장비 수요는 꾸준히 이어질 것으로 보인다”며 “이를 위한 장비 출하와 최고의 장비 성능 유지를 위한 인재 확보는 필수적”이라고 말했다.
ASML코리아 이주은 인사총괄은 “다운사이클에도 불구하고 두...
공정 미세화의 한계를 극복할 수 있는 신소재·신구조에 대한 연구개발(R&D)을 강화하고, 반도체 미세화에 유리한 극자외선(EUV) 기술을 조기에 도입하는 등 첨단기술을 선제적으로 적용할 방침이다. 삼성전자는 첨단기술의 선제적 적용으로 메모리 분야의 시장 점유율을 확장한다.
삼성전자는 세계 최초로 GAA(게이트올어라운드)기술을 적용한 3나노 파운드리...
멀티레이어 EUV(극자외선) 기술을 활용해 업계 최고 수준의 집적도로 개발됐다. 12나노급 D램은 이전 세대 제품 대비 생산성이 약 20% 향상됐으며 소비전력은 전작 대비 23% 줄었다.
삼성전자는 이보다 앞선 지난해 10월 퀄컴 최신 플랫폼에서 EUV 기술이 적용된 14나노 기반 LPDDR5X D램 8GB 패키지의 동작속도를 검증했다. 지난해 3월 퀄컴과 협력해 7.5Gbps를...
‘4세대(1a) DDR5’는 최첨단 EUV 노광 공정이 적용된 메모리로 10나노급 4세대 D램이 인텔의 인증 받은 건 SK하이닉스가 세계 최초다. 서버용 D램은 CPU와 결합해 데이터센터에 들어가는 메모리다. 그동안 이 시장의 주력제품은 DDR4였다.
인텔은 지난 10일 처음으로 DDR5를 지원하는 신형 CPU인 ‘사파이어래피즈’(Sapphire Rapids)를 선보였다. 시장에서는...
경쟁사 대비 앞선 첨단 극자외선(EUV) 공정을 적용하면서 삼성전자의 시장점유율과 원가율이 크게 개선될 것으로 보인다. 삼성전자 한종희 부회장과 경계현 사장의 공동 명의 신년사의 키워드도 ESG 경영이었다.
삼성SDI와 삼성전기도 영업이익 1조 클럽이 기대된다. 삼성SDI는 전기차향 전지 출하량이 지속해서 증가할 것으로 보이고, 삼성전기는 적층세라믹콘덴서...
이미 GM은 합리적인 가격의 쉐보레 볼트 EV와 EUV를 판매하고 있으며, 이쿼녹스 EV와 블레이저 EV를 각각 출시할 예정이다.
GM 한국사업장의 역할 역시 중요해지고 있다. 특히 GM 한국 연구개발법인은 GM의 연구개발 기관 중 미국 다음으로 규모가 클 정도로 많은 투자가 이뤄지고 있다. 이를 통해 다수의 글로벌 전기차(EV) 프로젝트에 투입돼 전기차 개발 및 미래...
노근창 현대차증권 연구원은 “DDR4 대비 DDR5의 칩 사이즈(Chip Size)가 통상적으로 1Y 공정에서 20% 이상 큰데 서버(Server) DDR5의 출시 가격이 인텔의 사파이어 래피드(Sapphire Rapids) 출시 지연으로 기존 대비 크게 낮은 상태에서 형성되면서 넷 다이(Net Die, 웨이퍼당 생산 가능한 칩수) 수 증가를 위한 극자외선(EUV) 적용의 필요성이 커질 것으로 보인다”...