뉴파워프라즈마는 반도체 및 디스플레이 산업의 핵심공정인 박막공정 및 식각공정 장비에서 사용 중인 공정용 플라스마 발생장치(PRG)와 플라스마 발생 전원 공급 모듈을 제조하는 기업이다.
국내 유일의 플라스마 관련 장비 업체인 뉴파워프라즈마는 플라스마 세정기(RPG) 국내 1위, 플라스마 전원장치(이하 RFG) 세계 2위의 점유율을 기록하고 있다.
한편 미ㆍ중 무역...
20일 본지 취재를 종합하면 비씨엔씨의 웨이퍼 식각 공정 부품(CD9)의 고객사 테스트가 마무리 단계로 마지막 테스트를 위해 샘플을 납품하고 있다.
비씨엔씨 관계자는 “CD9은 옥사이드 에칭에 사용하는 부품으로 기존 제품의 소재인 탄화규소(CVD SIC) 대체품이다”라며 “현재 고객사 테스트가 마무리 단계 진입해 내년 양산이 목표다”라고 말했다....
SK하이닉스는 내년 6월까지 웨이퍼 위에 새겨진 회로 외부의 불필요한 부분을 깍아내는 식각공정에 쓰이는 크립톤(Kr)ㆍ제논(Xe) 가스도 국산화해 원자재 수급 리스크를 최소화하고 첨단 반도체 기술 개발에 필요한 자원을 지속 확보해 나갈 방침이다.
SK하이닉스 FAB원자재구매담당 윤홍성 부사장은 “불안정한 국제정세로 불안한 공급상황에서도 국내 협력사와의...
김경민 하나금융투자 연구원은 “특수가스 중에서 공기 중에 극소량만 존재하는 가스는 네온(Ne), 크립톤(Kr), 제논(Xe) 등으로, 희귀가스는 반도체 노광공정이나 식각공정 등에서 사용되는데 상업적 양산이 어렵기 때문에 제철소 등에서 포집한다”고 말했다.
그는 “무역통계를 참고해보면, 러시아-우크라이나 사태가 본격적으로 심각해지기 전인 작년 4분기부터...
싸이노스는 반도체 식각공정 효율화에 필요한 세라믹 파우더를 개발해 식각공정 제조 비용 절감과 생산성을 높이는데 기여했다.
성규동 이오테크닉스 대표는 “8년간에 걸친 삼성전자와의 연구개발 성과로 설비 개발에 성공해 회사 임직원들도 큰 자부심을 느꼈다”라며 “앞으로도 혁신을 통한 반도체 경쟁력 강화 노력을 지속해 나갈 것”이라고 말했다....
한 연구원은 "예상대로 식각공정 시장 내 Plasma Hybrid 스크러버 채용 시작 효과를 예상하기 때문"이라며 "스크러버의 식각공정 향 진입에 높은 의미를 부여한다. 기존 스크러버는 식각 공정의 경우 가스, 케미칼의 발생량이 상대적으로 적어 국내에서는 적용되지 않았지만 기존 Burn-wet 타입의 스크러버가 LNG 가스를 사용해...
공정 내 환경 설비로의 스크러버 재평가 국면에 진입했다”며 “스크러버, 칠러는 메모리, 비메모리 모두 수혜라는 점과 온실가스 배출 등 반도체 공정 내 환경설비 스크러버 중요성이 부각될 것”이라고 내다봤다.
이어 “내년 최대 거래선의 식각공정 내 플라즈마 하이브리드 스크러버 도입에 따른 신규 시장 개화의 핵심수혜주가 될 것”이라고 덧붙였다.
ICP 방식 건식식각장비는 코일형태의 안테나에 RF전류를 흘려서 이로 인해 형성된 전기장이 공정공간 내에 주입된 가스의 흐름을 유도해 기판의 표면과 충돌시켜 식각공정을 수행하는 특징을 가지고 있다.
또한 디스플레이 물류 공정 장비 수주도 꾸준히 이뤄지고 있다. 인베니아는 LG디스플레이의 중국 광저우 OLED 공장 투자 당시 OLED 봉지(Encap) 공정 내...
강 부사장은 세계 최초 에어갭(Air Gap) 공정 적용 D램 제품 양산, 90단 이상 단일식각공정 기술 개발 공로를 인정받았다.
김 부사장은 CTF기반 96단 512Gb 4D 낸드플래시, TSV 기술 기반의 HBM 및 최고속 HBM2E 기술 개발이 수상 이유로 꼽힌다.
이밖에도 반도체 재료 국산화 및 신기술 개발 등을 통해 경쟁력 확보에 기여한 솔브레인 박휴범 전무, 카메라 센서 분야 등...
※유도결합형플라즈마(ICP) 방식 건식식각장비 : 기판에 TFT(박막트랜지스터) 회로 패턴을 만들기 위해 불필요한 부분을 깎아내는 식각공정에는 용액의 화학적반응에 의한 습식식각과 가스의 물리/화학적반응에 의한 건식식각공정이 있음, ICP방식 건식식각장비는 코일형태의 안테나에 RF전류를 흘려서 이로 인해 형성된 전기장이 공정공간 내에 주입된 가스의...
위지트의 핵심기술로 만들어낸 디스플레이·반도체 양극산화피막 부품은 식각공정장비 주요부품이다. 공정 중 플라즈마에 대한 열화로 발생하는 오염 입자의 원인이 되므로 신뢰성 확보가 매우 중요하다.
위지트 관계자는 “기존에는 취약한 기술력으로 물성평가에 의존했다”며 “비용과 시간이 과다 소요된다는 문제가 있었다”고 말했다.
이어 “당사는 약...
실리콘 카바이드 링은 반도체 칩 식각공정에서 사용하는 소모품 링을 의미한다. 티씨케이는 기존 실리콘 링이나 쿼츠 링을 실리콘 카바이드 재질로 대체해 사용주기를 연장한 기술로, 지난 2015년 산업통상자원부로부터 대한민국 기술대상 장관상을 받기도 했다.
이 과정에서 충남도, 당진시가 페로텍과 투자유치 협약을 맺고, 국비 지원까지 지원한 게 드러나 혈세...
그는 또 “최근에는 지속적인 연구 개발을 통해 기존보다 향상된 성능을 가진 300mm 폴리 식각장비(모델명 : Leo NK I-C)를 개발해 다양한 식각공정에 적용하고 있다”면서 “향후 디램의 회로선폭 미세화, 낸드의 고적층화 및 고객사의 신규 공장 증설 등 매년 큰 폭의 매출 성장이 가능할 것”이라고 말했다.
에이피티씨는 독자기술로 반도체 식각장비를...
이중 MEMS(미세 전자제어 기술) Probe Card는 MEMS 기술을 적용, 반도체 식각공정으로 만들어지는 Probe Card로 기존 방식의 Probe Card에 비해 정밀도가 높고 반도체 미세화에 대응이 가능하다는 특징을 지니고 있다.
마이크로프랜드는 기술력을 바탕으로 국내 기업으로는 처음으로 고객사에 DRAM용 MEMS Probe Card를 공급하는 데 성공했다. 현재도 국내...
C4F6는 반도체 에칭가스로 반도체 공정 중 포토리소그래피 공정 후 웨이퍼 위에 일정한 회로패턴을 만들어주기 위해 필요없는 부분을 선택적으로 제거하는 식각공정에 사용된다. WF6는 증착 시 사용되는 가스다. 현재 삼성전자, 하이닉스 등에 공급하고 있다.
반도체 특수가스 가격이 오르는 이유는 수요 대비 공급이 부족하기 때문. 특수가스의 수익성은...
C4F6는 반도체 에칭가스로 반도체 공정 중 포토리소그래피 공정 후 웨이퍼 위에 일정한 회로패턴을 만들어주기 위해 필요없는 부분을 선택적으로 제거하는 식각공정에 사용된다. WF6는 증착 시 사용되는 가스다. 현재 삼성전자, 하이닉스 등에 공급하고 있다.
반도체 특수가스 가격이 오르는 이유는 수요 대비 공급이 부족하기 때문. 특수가스의 수익성은...
그동안 반도체 제조 및 전자부품업의 유리기판 식각공정에서 발생되는 불산 폐액은 고농도의 불산, 황산, 질산 및 다량의 슬러지가 혼합돼 있어 대부분 자체 처리가 어려운 탓으로 지금까지는 수탁처리업체를 통해 고가로 처리하고 있는 실정이었다.
그러나 시노펙스는 불산폐액를 멤브레인 방식을 적용해 선택적인 분리를 통한 불산 및 황산은 제품 가공에 재이용되며...
△원익머트리얼즈
증착 및 식각공정에 사용되는 특수가스 전문 제조업체로 100여종의 제품 라인업을 보유한 가운데 삼성전자, SMD 등 주요 매출처를 확보하고 있어 안정적인 성장이 기대된다. 또한 국내외적으로 큰 폭으로 시장 확대가 예상되는 AMOLED의 경우 SMD에 10여종의 공정가스를 납품하고 있어 향후 AMOLED 시장 성장에 따른 수혜가 전망된다.