한국전자통신연구원, 세계 최고 수준 나노금형 기술 개발

반영구 사용 및 단시간 내 저비용 대량생산도 가능

세계 최고 수준의 나노 금형 복제 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.

한국전자통신연구원(ETRI)는 10nm(머리카락 10000분의 1 굵기) 이하의 나노 금형(mold)을 저렴한 가격으로 대량 복제할 수 있는 원천 소재를 개발했다고 24일 밝혔다.

이번 연구결과는 영국왕립화학회에서 지난 7일 발행한 신소재·재료 분야의 세계적 권위지인 ‘저널 오브 머티리얼스 케미스트리(Journal of Materials Chemistry)’의 논문으로 게재돼 연구의 독창성과 우수성을 대외적으로 입증했다.

이번에 개발된 복제 금형용 원천 소재는 기존 방법과는 달리 이형제를 처리하지 않아도 쉽게 패턴 분리가 되는 소수성이 높은 저점도의 비점착성 재료다. 높은 기계적 강도로 반영구적으로 사용할 수 있고 높은 유연성으로 평면뿐 아니라 곡면 상에도 나노구조물 제작이 가능하다. 실제 ETRI 연구팀은 페트 필름 위에 결함이 없는 8nm의 나노 구조물을 제작하는 데 성공하기도 했다.

또한 이번에 개발된 복제 금형 재료는 기존의 고가 극자외선(EUV) 장비를 사용하는 공정 대신 단시간 내에 저비용으로 대량 생산이 가능하다는 경쟁 우위를 확보했다.

이번 연구를 주도한 이봉국 ETRI 박사는 “10nm 이하의 극나노 금형 복제 기술은 현재 전 세계적으로 미국, 일본 등 소수 국가만이 보유하고 있는 고난이도 기술”이라면서 “이번 세계 최고 수준의 기술 개발로 우리나라는 나노기술 강국의 면모를 전 세계에 각인시키게 될 것”이라고 말했다.

한편 이번 연구성과는 지식경제부의 협동연구사업과 산업융합원천기술개발사업의 일환으로 ETRI 연구팀은 향후 이번 나노 금형 복제용 재료 기술을 바탕으로 디스플레이용 나노 패턴 필름 개발, Roll to Roll 대면적 편광 필름 개발 및 유연 전자소자 개발 등에 활용할 계획이다.