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반도체ㆍ디스플레이 110.4조원 투입…中과 기술격차 벌린다

산업부,삼성전자,SK하이닉스,LG디스플레이,학계 등 전문가 20명으로 발전위 출범

▲반도체, 디스플레이기업 신규투자 현황. 삼성전자는 평택공장에 제2생산라인 추가 건설을 의결했다. 투자금액은 30조원으로 추정돼 평택 신규투자는 44.4조원.(산업통상자원부)
▲반도체, 디스플레이기업 신규투자 현황. 삼성전자는 평택공장에 제2생산라인 추가 건설을 의결했다. 투자금액은 30조원으로 추정돼 평택 신규투자는 44.4조원.(산업통상자원부)

중국 등 후발국의 추격을 따돌리고 글로벌 경쟁력 우위를 지키기 위해 정부와 반도체·디스플레이 업계가 뜻을 모았다. 반도체·디스플레이 업계는 총 110조 4000억원의 투자를 단행해 경쟁력을 강화하겠단 계획이다. 정부도 기술개발·신시장 창출·자금 지원 등을 통해 반도체·디스플레이 기술 격차를 후발국과는 벌리고 선진국과는 줄이겠단 구상이다.

산업통상자원부는 8일 서울에 있는 더플라자호텔에서 ‘반도체·디스플레이 산업 발전전략 발표 및 상생발전위원회 출범식’을 열었다고 밝혔다.

백운규 산업부 장관이 위원장을, 박성욱 SK하이닉스 부회장과 한상범 LG디스플레이 부회장이 공동 위원장을 맡은 반도체·디스플레이 상생발전위원회는 소자·패널 대기업, 소재·부품·장비 기업, 대학 등 전문가 20명으로 꾸려졌다.

이들은 소재·부품·장비산업 육성을 위한 상생발전 공동 선언을 하고 반도체·디스플레이 산업 수요연계 대학 연구개발(R&D) 및 인력양성 지원 양해각서(MOU), 반도체·디스플레이 산업 분야 기술유출 방지 협력 MOU를 체결했다.

특히 반도체·디스플레이 업계는 총 110조 4000억원을 대대적으로 투입하는 등 공격적인 전략을 펼칠 계획이다. 작년 7월 가동을 시작한 평택 공장(NAND) 제1 생산라인에 2021년까지 14조 4000억원 추가 투입 계획을 세운 삼성전자는 7일 이사회 산하 경영위원회에서 제2 생산설비 건설을 위한 기초 골조건설 투자 안건을 의결했다. 제1라인 투자액인 30조원인 점을 볼 때 제2라인도 30조원을 투자하면 평택에만 총 44조 4000억원이 추가 투입된다. 삼성전자는 화성 공장(AP)에도 6조원을 투입하며, 삼성디스플레이는 천안공장(OLED)에 14조원을 투자한다. SK하이닉스는 청주공장(NAND)에 15조 5000억원, 이천 공장(품목 미정) 15조 5000억원을 각각 투자하며, LG디스플레이도 파주·구미공장(OLED)에 15조원을 투입하는 등 반도체·디플레이 업계가 총 110조 4000억원을 투자한다.

더불어 산업부는 ‘반도체·디스플레이 산업 발전전략’을 발표하고 미래시장을 선도할 수 있는 획기적 기술개발을 추진하기로 했다. 반도체는 성능 1000배, 전력 소모 1/1000을 목표로 신소재에 대한 상용화 기술 연구와 나노 단위를 초월하는 극미세 공정기술 연구를 벌인다. 디스플레이는 20% 이상 신축이 가능한 플렉서블 디스플레이, 소재 사용량 60% 절감 및 공정시간 50% 단축이 가능한 프린팅 방식의 생산체계 등도 개발한다.

백 장관은 “4차 산업혁명 등으로 반도체·디스플레이 산업에서 새로운 시장이 열리고 있으니 업계가 선제적으로 대응해 달라”며 “정부도 미래시장을 선도할 수 있는 기술개발에 적극 나서겠다”고 말했다.

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