韓 반도체 초격자 초석된 국내 첫 '4메가 D램 설계도면' 39년 만에 복원

입력 2026-10-27 14:49

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국가기록원, 1986~1987년 풀칩 도면 15건, 8개월 노력 끝에 성과
한국전자통신연구원(ETRI) 전달… 천연염색 한지 보강·누리집 원문 공개

▲삼성 4메가 D램 설계도면(1986~1987년) (사진제공=국가기록원)
▲삼성 4메가 D램 설계도면(1986~1987년) (사진제공=국가기록원)

대한민국 메모리 반도체 신화의 출발점인 '4메가(M) D램' 핵심 설계도면이 훼손 위기를 딛고 온전한 형태를 되찾았다.

행정안전부 국가기록원은 제19회 반도체의 날(10월 29일)을 계기로 1986~1987년 제작된 '4메가 D램 설계도면' 15건(총 67매)을 정밀 복원해 원소장처인 한국전자통신연구원(ETRI)에 인계한다고 27일 밝혔다.

이번에 보존 처리를 마친 기록물은 국내 연구진이 독자 기술로 완성한 4메가 D램 전체 회로 구성을 담은 풀칩(Full chip) 도면이다. 기존 1메가 D램보다 4배 높은 집적도를 달성하기 위해 메모리 셀 축소와 효율적인 배선 설계를 집약한 초기 기술 원본이다.

길이 1~3m에 이르는 대형 도면 특성상 주름과 꺾임이 심했고, 과거 임시로 붙인 테이프 접착제가 굳어 추가 손상이 우려되는 상태였다.

국가기록원은 '맞춤형 복원·복제 처리 지원사업'에 착수해 8개월간 접착 성분을 제거하고 오리나무 열매와 도토리 껍질로 염색한 전통 한지를 덧대 손상부를 정밀 보강했다. 또한 장기 보관을 위해 지름 6cm 중성롤 축과 전용함을 새로 제작했다. 복원 도면은 고해상도 디지털화를 거쳐 국가기록원 누리집을 통해 일반에 공개된다.

4메가 D램은 1986년 정부와 ETRI를 주축으로 삼성반도체통신, 금성반도체, 현대전자 및 학계가 결집한 '초고집적 반도체기술 공동개발 사업'의 결실이다. 1989년 개발 완료 이후 2025년 국가중요과학기술자료로 등록됐다.

이용철 국가기록원장은 "제19회 반도체의 날을 맞아 우리나라 반도체 산업의 성장과 혁신을 보여주는 기록의 가치를 되살렸다는 데 의미가 있다"며 "복원된 기록물이 널리 활용돼 반도체 산업에 대한 국민적 관심을 높이고, 미래 기술 혁신을 이끄는 소중한 밑거름이 되기를 바란다"고 강조했다.

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