주성엔지니어링은 16일 반도체소자의 제조장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
주성엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 챔버의 잔류 기체물질을 외부로 배기함에 있어서, 챔버의 반응영역 전 면적에 걸쳐 고른 배기압력을 부여할 수 있도록 판 상의 배기플레이트를 구비해 서셉터와 챔버의 저면 사이에 수평하게 게재함으로써, 보다 개선된 배기구조를 가지는 액정표시장치용 챔버를 제공한다"고 설명했다.
입력 2006-11-16 15:35
주성엔지니어링은 16일 반도체소자의 제조장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
주성엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 챔버의 잔류 기체물질을 외부로 배기함에 있어서, 챔버의 반응영역 전 면적에 걸쳐 고른 배기압력을 부여할 수 있도록 판 상의 배기플레이트를 구비해 서셉터와 챔버의 저면 사이에 수평하게 게재함으로써, 보다 개선된 배기구조를 가지는 액정표시장치용 챔버를 제공한다"고 설명했다.
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