SK하이닉스, 기술한계 극복 나섰다…기술교류 ‘학술대회’ 개최

▲박성욱 SK하이닉스 사자이 '제2회 SK하이닉스 학술대회'에서 참석자들을 격려하고 있다.(사진제공=SK하이닉스)

SK하이닉스가 임직원 간 기술교류를 통한 기술한계 극복에 나섰다.

SK하이닉스는 30일 경기도 이천 본사 인력개발원에서 ‘제2회 SK하이닉스 학술대회’를 개최했다고 1일 밝혔다.

올해 학술대회는 ‘한계를 넘어라’는 주제로 지난해 소자·공정, 설계·솔루션, 제품·응용기술, 차세대 제품 등 4개 분과에 제조·품질을 추가해 총 5개 분과로 구성됐다. 또 논문 접수 기간을 기존 1개월에서 2개월로 늘려 논문의 질과 임직원들의 참여율을 높였다.

학술대회는 연구개발 및 제조 등 기술분야 임직원들 간 활발한 학술교류를 통해 미래 기술의 한계 극복 및 엔지니어 역량 강화를 위해 지난해부터 시작됐다.

이번 학술대회에서는 지난 6월부터 접수를 받아 선정된 200여편의 우수논문이 인력개발원 내 11개 세미나룸에서 발표됐다. 특히 박성욱 SK하이닉스 사장을 비롯해 제조·기술부문장 오세용 사장, D래개발부문장 김용탁 부사장 등 주요 경영진이 참석해 임직원들을 격려했다.

대상(1명·상금 1000만원)과 분과별 우수 논문 수상자 등에게는 총 2000만원 규모의 상금과 해외 주요 학술대회 참관 기회가 부상으로 제공됐다. 대상은 미세공정 진화에 따른 특성확보의 어려움을 극복하기 위해 ‘D램 신뢰성 향상 방안’을 연구한 미래기술연구원 권일웅 책임이 수상했다. 낸드총괄본부 강진성 책임은 원가경쟁력 강화에 대한 활용성을 부각한 ‘낸드플래시 회로 면적 감소’에 대한 논문을 발표해 금상을 수상했다.

D램개발부문장 김용탁 부사장은 “이번 학술대회에서는 학술적 가치뿐 아니라 개발에 접목 가능한 논문들을 다수 발견해 의미가 있었다”며 “향후에도 임직원들 상호 간의 기술교류를 더욱 활성화하고 발전적인 경쟁을 유도해 기술기반의 성장을 촉진할 계획”이라고 말했다.