[공시]테스, 가스분사장치 관련 특허 취득

입력 2011-11-01 15:01

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테스는 가스분사장치와 관련된 특허를 취득했다고 1일 공시했다. 회사 측은 이 특허에 대해 “가스분사플레이트가 상하방향으로 열변형되지 않고 가스분사플레이트와 기판 사이의 간격이 일정하게 유지돼 박막의 증착균일도가 보장될 수 있으며, 영구자석이나 결합부재가 가스나 플라즈마에 의해 부식되는 것을 방지할 수 있다”며 “장비 제조에 적용해 제품경쟁력을 강화할 계획”이라고 밝혔다.


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