코스맥스는 ‘다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법’에 대한 특허를 취득했다고 28일 공시했다. 이 특허는 향후 생산될 제품에 사용될 예정이다.
입력 2020-01-28 15:28
코스맥스는 ‘다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법’에 대한 특허를 취득했다고 28일 공시했다. 이 특허는 향후 생산될 제품에 사용될 예정이다.
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