테스는 기판처리장치 관련 특허를 받았다고 5일 공시했다. 회사 측은 “이 특허는 열에 의해 분해된 가스가 재결합돼 챔버 내에 파우더 형태로 잔존하게 되는 것과 가열 램프의 on/off에 의해 챔버 내의 분위기가 급변되는 것을 방지해 모든 기판을 균일하게 처리할 수 있다”고 설명했다.
입력 2012-12-05 11:32
테스는 기판처리장치 관련 특허를 받았다고 5일 공시했다. 회사 측은 “이 특허는 열에 의해 분해된 가스가 재결합돼 챔버 내에 파우더 형태로 잔존하게 되는 것과 가열 램프의 on/off에 의해 챔버 내의 분위기가 급변되는 것을 방지해 모든 기판을 균일하게 처리할 수 있다”고 설명했다.
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