반도체 EUV 장비 도입 기간 34→9일 간소화...검사비 5억 절감

고압가스 안전관리법 시행령 일부개정안 의결

▲용인반도체클러스터 공사현장. (연합뉴스)

앞으로 반도체 핵심 공정에 사용되는 극자외선(EUV) 장비의 국내 도입 절차가 대폭 줄어든다. 이에 따라 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들의 첨단 생산라인 구축에 속도가 붙을 것으로 보인다.

산업통상부는 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조 장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 특정설비 기준을 적용하도록 하는 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부 개정안이 의결됐다고 밝혔다. 이번 개정안은 다음 주 중 공포 후 즉시 시행될 예정이다.

그동안 반도체 공정에 필수적인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관 및 장치가 포함돼 있어 현행법상 '고압가스 제조설비'로 분류됐다. 이에 따라 EUV 장비 설치 시마다 기술검토와 검사를 받아야 했다. 이 과정에서 장비 도입이 지연되고 기업 부담이 발생한다는 의견이 제기됐다.

산업부는 EUV 장비를 기존 고압가스 제조시설에서 특정설비로 전환해 안전성을 관리하는 이번 개정안을 마련했다. 이번 제도 개선으로 EUV 장비 도입 기간은 장비당 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축된다. 해외 공인검사기관 내압·기밀 검사비용은 장비당 약 5억 원 절감될 것으로 예상한다.

산업부는 이번 제도 개선으로 국내 반도체 기업들이 첨단 제조 장비를 적기에 도입하고 신속히 가동함으로써 우리 반도체 산업의 초격차 유지에 이바지할 것으로 기대하고 있다.

정부는 이번 시행령 개정과 함께 시행규칙 개정도 동시에 추진해 산업 전반의 규제를 합리화할 계획이다. 물과 세탁세제 대신 이산화탄소를 사용해 세탁하는 친환경 액화 이산화탄소 세정설비가 국내 최초 상용화될 수 있도록 맞춤형 검사기준을 신설하는 등 규제를 합리화했다. 위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 선임기준을 현실에 맞게 정비하는 내용 등도 포함했다.

김정관 산업부 장관은 "법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례"라며 "앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극적으로 지원해 나가겠다"고 밝혔다.