[컨콜] SK하이닉스 "EUV 적용 4세대 D램, 빠른 수율 상승 가능할 것"

입력 2021-07-27 09:54

SK하이닉스는 27일 진행된 2분기 실적 콘퍼런스 콜에서 최근 양산을 시작한 1a 나노미터 D램 제품에 대해 "이 제품은 EUV(극자외선)를 적용해 만드는 첫 양산 제품이지만, EUV 기술을 본격 적용하기 전에 시험 성격이 있다"라며 "이에 따라 EUV 기술을 일부 적용하면서도, 기존에 쓰고 있던 제조 플랫폼을 유지하는 마지막 제품"이라고 설명했다.

이어 "기존 제조 플랫폼을 유지한다는 점에서 빠른 속도로 수율 상승이 이뤄질 것으로 보고 있다"라고 덧붙였다.

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