중국에 ‘반도체 핵심 기술’ 빼돌린 삼성전자 前 부장…1심서 징역 7년·벌금 2억

삼성전자 18나노 D램 공정 정보 무단 유출 혐의
삼성전자 협력업체 전 직원, 징역 2년 6개월 선고

▲법원 (이투데이DB)

반도체 핵심 기술을 중국에 빼돌린 혐의를 받는 삼성전자 전직 부장이 1심에서 징역 7년을 선고받았다.

서울중앙지법 형사25부(지귀연 부장판사)는 19일 오후 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 김모 씨에게 징역 7년과 벌금 2억 원을 선고했다. 김 씨와 함께 재판에 넘겨진 삼성전자 협력업체 전 직원 방모 씨는 징역 2년 6개월을 선고받았다.

앞서 지난해 12월 열린 결심공판에서 검찰은 김 씨와 방 씨에게 각각 징역 20년, 징역 10년을 선고해 달라고 재판부에 요청했다.

김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단으로 유출해 중국 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 지난해 1월 재판에 넘겨졌다.

검찰은 김 씨 등이 2016년 CXMT로 이직하면서 기술을 유출하고 그 대가로 수백억 원대 금품을 받은 것으로 의심하고 있다. 또 김 씨가 최소 세후 5억 원이 넘는 연봉을 제시하며 삼성전자 및 관계사 인력 20여 명을 빼간 것으로 파악했다.