삼성전자, 3분기 시설 투자 10조2000억… 누계 33조5000억

입력 2021-10-28 09:06

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4분기 투자는 검토 단계

▲삼성전자 반도체 공장 내부 모습.
▲삼성전자 반도체 공장 내부 모습.
삼성전자는 지난 3분기 시설 투자에 10조2000억 원을 투입했다고 28일 밝혔다. 사업별로는 반도체 9조1000억 원, 디스플레이 7000억 원 수준이다.

3분기 누계로는 33조5000억 원이 집행됐으며, 반도체 30조 원, 디스플레이 2조1000억 원 수준이다.

사업별로 보면, 메모리는 내년 수요 증가 대응과 DDR5(Double Data Rate 5) 등 차세대 제품 준비를 위한 평택·시안 첨단공정 증설 및 공정 전환에 투입했다. 또 미래 수요 대응을 위한 평택 P3 라인 인프라 투자도 진행했다. 파운드리는 평택 EUV 첨단공정 증설 투자 등을 중심으로 집행됐다.

디스플레이는 QD 디스플레이 생산능력(CAPA) 확대, 중소형 모듈 투자를 통한 신규 기술 전환 가속화에 중점을 두고 투자했다.

삼성전자 관계자는 "시황과 연계된 탄력적인 투자 집행 기조를 유지하고 있으며, 부품 수급 이슈 등 불확실성이 높아진 상황을 고려해 아직 4분기 투자는 검토하고 있다"며 "이번 실적 발표에서는 2021년 연간 시설투자 전망치를 제시하지 않았다"고 설명했다.

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