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삼성전자, 3년간 반도체 설비에 76조 원 투자…인텔의 1.5배

입력 2019-11-07 08:42

중국 모든 반도체 업체 투자 금액의 두 배에 달해

▲삼성전자 클린룸 반도체 생산현장  (사진제공=삼성전자)
▲삼성전자 클린룸 반도체 생산현장 (사진제공=삼성전자)

삼성전자가 3년간 반도체 설비에 투자한 규모가 인텔의 1.5배에 달할 전망이다.

7일 글로벌 시장조사업체 IC인사이츠 보고서에 따르면 2017년부터 올해까지 삼성전자의 반도체 설비투자 규모는 658억 달러(약 76조3000억 원)를 기록할 것으로 예상됐다.

이는 반도체 설비투자 규모 2위인 인텔(약 430억 달러ㆍ약 50조 원)보다 53% 많은 수준이고, 중국 모든 반도체 업체 투자 금액의 두 배에 달한다.

같은 기간 삼성전자의 반도체 매출액은 증권가 추정 약 226조 원으로 인텔(약 227조 원 추정)과 비슷한 수준일 것으로 보인다.

IC인사이츠는 이와 관련 "삼성전자가 중국 메모리 스타트업을 멀찌감치 따돌리는 한편 파운드리 강자인 TSMC와 경쟁하기 위해 진지하게 고민하고 있다는 의미"라고 분석했다.

삼성전자는 반도체 시장에 주도권을 차지하기 위해 투자를 지속한다는 계획이다.

삼성전자는 3분기 실적설명회에서 "4분기 투자는 중장기 수요에 대응하기 위한 메모리 인프라 투자에 집중돼 있다"면서 "파운드리 경쟁력 강화를 위한 극자외선(EUV) 7나노 생산량 확대도 지속할 방침"이라고 설명했다.

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