삼성전자, 지난해 시설투자 43조400억 집행… 올해는 전년비 감소 전망

삼성전자는 지난해 시설 투자 43조4000억 원을 집행했다고 31일 밝혔다. 사업별로는 반도체 27조3000억 원, 디스플레이 13조5000억 원 수준이다.

늘어나는 V낸드 수요에 맞춰 평택 반도체 라인을 증설했고, 파운드리 10나노 공정 캐파 확대에 투자했다. 또 플렉서블 OLED 패널 고객 수요 증가 대응을 위한 OLED 캐파 확대에 적극 투자해 지난해 전체 투자 규모는 2016년 대비 대폭 증가했다.

삼성전자 관계자는 "올해 투자 계획은 아직 확정되지 않았으나, 전년 대비 감소할 것으로 예상된다"고 말했다.