내년부터 美 특허출원 편리성·신속성 높인다

한·미 ‘특허심사하이웨이’ 시범 시행 합의

‘한-미 특허심사하이웨이’의 시행으로 앞으로 우리 국민이 미국에 특허출원하기가 더욱 편리해지고, 심사결과도 더 신속히 받을 수 있게 될 전망이다.

한·미 양국 특허청은 한·미 양국에 공통으로 제출된 특허출원으로서 어느 한쪽 국가에서 긍정적인 심사결과를 받으면, 다른 국가에서는 해당 특허출원을 다른 것보다 우선하여 심사하는 내용을 골자로 하는 ‘한-미 특허심사하이웨이’를 2008년 1월 1일부터 시범 시행하기로 합의했다.

이번 한·미 특허심사하이웨이는 한·일 특허심사하이웨이에 이어 우리청과 선진 특허청간에 두 번째 시행하는 것이다. 이는 미국 특허청이 우리 특허청의 심사품질을 높이 평가하고 있다는 것을 알 수 있으며 국제 특허행정 분야에서 높아진 우리 특허청의 위상을 다시 한번 확인 할 수 있게 됐다.

미국의 현행 평균 1차 심사처리기간은 22.6개월(2006년 기준)이며, 특허심사하이웨이를 이용하여 우리 출원인이 한국에서 미국으로 조기심사를 신청하는 경우 1차 심사처리기간이 최장 9개월 정도 소요되므로, 13.6개월 더 빨리 심사를 받을 수 있게 된다. 이로 인해 우리 출원인의 특허기술이 조기에 사업화가 가능하게 되는 등 사회·경제적 비용 절감 효과가 매우 클 것으로 예상된다.

전상우 특허청장은 지난 5월 5개국(한·미·일·중·EU) 특허청장회담에 참석하여 한·일, 미·일 양국간에 실시되고 있는 특허심사하이웨이를 양자간 또는 다자간으로 확대할 것을 제안한 바 있다. 이에 대해 미국특허청은 전폭적인 지지를 표명했고, 지난 6월 한국특허청에 양국간 특허심사하이웨이를 추진할 것을 공식 요청해 이번 합의에 이르게 된 것이다.

양국 특허청장은 오는 9월 제네바에서 양청장간 회담을 개최하고 ‘한-미 특허심사하이웨이’합의서에 공식적으로 서명할 예정이며, 양국간 특허심사하이웨이는 심사적체물량의 해소 및 심사처리기간의 단축에 크게 기여할 것으로 기대된다.