피에스케이, 플라즈마 챔버시스템 관련 특허 취득

피에스케이는 20일 플라즈마 챔버시스템 및 이를 이용하여 저유전막을 갖는 기판상에 형성된 포토레지스트 패턴을 애상하는 방법과 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

피에스케이 관계자는 "본 발명은 플라즈마(plasma)를 이용한 다운 스트림(down stream)방식으로 기판의 포토레지스터(Protoresistor)를 제거하는 다운스트림 방식의 플라즈마 처리장치 및 방법에 관한 것"이라고 설명했다.

이어 " 본 발명의 다운스트림 방식의 플라즈마 처리장치는 척에 접지라인을 연결하여 척을 전기적으로 그라운드시키는데 그 특징이 있으며, 이러한 다운스트림 방식의 플라즈마 처리장치는 공정중에 척과 플라즈마 간의 전위차로 인한 플라즈마내의 이온 충격에 의한 기판 데미지를 최소화할 수 있다"고 덧붙였다.