이날 인베스터 포럼에서 삼성전자는 반도체 EUV(극자외선) 및 '온디바이스 AI' 경쟁력을 강화하겠다고 강조했다.
삼성전자는 올해 10나노급 3세대(1z) D램에 EUV 공정을 세계 최초로 적용하면서 EUV 기반 차세대 D램 양산 능력을 끌어올리고 있다. 한진만 삼성전자 메모리사업부 전무는 "사내 EUV 생태계를 갖추고 EUV 관련 팀을 꾸려 운영하고 있다"고...
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10/29, 3분기 실적 리뷰 자료...
특히 2017년 5월 삼성전자의 파운드리 초대 사업부장으로 부임한 이후 EUV 노광 기술 및 MRAM 공정 기술 세계 최초 양산, 5나노 공정 기술개발 주도 등의 공로를 인정받았다.
그간 서정욱 전 과학기술부 장관, 윤종용 전 삼성전자 부회장, 진대제 전 정보통신부 장관, 김기남 삼성전자 부회장, 박성욱 SK하이닉스 부회장 등 국내 전자산업을 대표하는 인물들이...
메모리 사업에선 EUV(극자외선) 공정을 업계에서 유일하게 양산에 적용하며 차세대 D램 개발의 핵심 기술을 가장 먼저 확보한 상태다. 이를 통한 원가 경쟁력 제고 및 품질 완성도를 강화하기 위한 전략을 제시할 계획이다.
시스템LSI 분야에선 고화소 이미지센서 전략을 중점적으로 발표할 예정이다. 미국의 제재로 화웨이 스마트폰 판매가 줄면서 화웨이에...
이를 위해 삼성전자는 차세대 기술인 EUV(극자외선)을 활용한 첨단 공정에 주력하고 있다. 이재용 삼성전자 부회장은 지난달 유럽 출장에서 EUV 노광장비를 공급하는 ASML 네덜란드 본사를 찾아 최고경영진과 면담하기도 했다.
삼성전자는 화성캠퍼스에 EUV 전용인 V1 라인 가동하고, 평택캠퍼스에 파운드리 생산시설 투자를 결정하는 등 경쟁력을...
‘스마트 엔지니어링’ 분야 최우수평가를 받은 ㈜이솔은 일본ㆍ독일 등의 글로벌 기업이 지배하는 반도체용 극자외선(EUV) 마스크 검사장비 국산화를 통해 연간 1000억 원 규모의 수입대체가 가능할 것으로 예상한다.
‘신소재’ 분야 ㈜탑앤씨는 대일본인쇄(DNP) 등 경쟁사 대비 우수한 2차전지용 파우치 필름을 개발해 2025년까지 2000억 원의 수입대체 효과를 거둘 수...
D램·낸드 4분기 수요 약세…내년 1분기부터 안정화내년 2분기 이후 D램 공급부족 가능성"EUV 역량 충분히 확보"…10나노 4세대 D램부터 적용
SK하이닉스가 메모리 반도체 가격하락 흐름 속에서도 3분기 영업이익 1조3000억 원을 기록하며 선전했다.
SK하이닉스는 올 3분기 매출액 8조1288억 원, 영업이익 1조2997억 원, 순이익 1조779억 원을 기록했다고 4일...
SK하이닉스 이석희 사장은 4일 열린 3분기 실적 콘퍼런스콜에서 "올해 말 완공되는 이천 M16에는 EUV(극자외선) 전용 클린룸 공간이 이미 마련됐다. 장비도 일정대로 입고될 것"이라며 "10나노 4세대 D램부터 적용해 생산할 계획"이라고 밝혔다.
이어 "(D램 생산 EUV 적용은) 예정대로 잘 진행되고 있다. EUV 지식과 역량은 연구소...
은탑산업훈장은 수입에 의존하던 반도체 핵심재료인 첨단 EUV용 포토레지스트 투자를 유치해 국내생산과 신규 고용 창출에도 크게 기여한 강상호 롬엔드하스 전자재료 유한회사 대표가 수상했다. 롬엔드하스는 미국 듀폰의 국내 자회사이다.
또 1억3100만 달러 규모의 외국인투자를 유치해 인조흑연 소재에서 제조에 이르는 일관공정 체제를 국내에 구축한 아오키...
이 사장은 "올해 말 완공할 예정인 (경기 이천) M16 공장에 극자외선(EUV) 장비를 설치할 것"이라고 했다.
이날 이 사장은 '제13회 반도체의 날' 기념식 시작 전 정승일 산업부차관과 함께 코엑스에서 열리고 있는 '반도체 대전 2020' 전시장도 방문해 삼성전자, SK하이닉스 부스를 포함한 10여 개 부스를 둘러봤다.
올해 반도체 29조 원ㆍ디스플레이 4조 원…3분기에만 8조4000억 원 집행메모리 첨단공정 전환·증설 투자파운드리 EUV 5나노 공정 증설 투자QD 디스플레이 생산능력ㆍ 중소형 신기술 공정 중심 투자 확대
삼성전자가 올해 30조 원이 넘는 시설투자를 단행하며, 반도체와 디스플레이 사업에서 초격차를 이어간다.
삼성전자는 올해 총 35조2000억 원 규모의 시설...
삼성전자는 이날 열린 컨퍼런스콜에서 D램과 파운드리에 EUV(극자외선)를 동시 적용한 시너지 와 관련 "파운드리 EUV 적용 경험이 있어 D램에서도 완성도를 높일 수 있었고, 인프라 측면에서도 경쟁력을 갖출 수 있었다"고 설명했다.
이어 "EUV 전담 조직을 운영해 EUV 시너지 효과를 극대화하려고 한다"며 "차별화된 에코 시스템 만들기 위해...
그러면서 "EUV 전담 조직을 운영해 EUV 시너지 효과를 극대화하려고 한다"며 "차별화된 에코 시스템 만들기 위해 추가 IP 확보에 힘쓰고 원가경쟁력 확보를 위해 노력하고 있다"며 차세대 공정에 대한 청사진도 밝혔다.
모바일 부문의 경우 5G 시장이 내년에 본격적으로 개화할 것이라는 기대감을 드러냈다. 올해 갤럭시Z플립, 갤럭시Z폴드2 등...
삼성전자는 29일 열린 3분기 실적 콘퍼런스콜에서 D램과 파운드리 EUV 동시 적용 시너지 효과와 관련 "파운드리 EUV 적용 경험이 이어 D램에서도 완성도를 높일 수 있었고, 인프라 측면에서도 경쟁력을 갖출 수 있었다"며 "EUV는 단순히 설비만 구해서 생산에 적용하는 것보다 마스크, 세정, 검사 등 전반 에코시스템을 구축해 내재화하는...
사업별로 보면 메모리의 경우, 향후 수요 증가 대응 등을 위한 첨단공정 전환과 증설 투자로 전년 대비 증가가 예상되고, 파운드리도 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 5나노 공정 등 증설 투자로 증가가 예상된다.
디스플레이는 QD 디스플레이 생산능력(캐파)과 중소형 신기술 공정 중심으로 투자가 증가할 것으로 예상된다.
삼성전자는 최첨단 EUV(극자외선) 공정으로 반도체 산업에서 다시 한번 초격차를 벌려가고 있다.
삼성전자는 올해 8월에는 업계 최초로 7나노 EUV 시스템반도체에 3차원 적층 패키지 기술인 ‘X-Cube(eXtended-Cube)’를 적용한 테스트칩 생산에 성공했다. 이로써 삼성전자는 최첨단 EUV 초미세 전공정뿐 아니라 후공정에서도 첨단 기술 경쟁력을 확보하게 됐다.
‘X...
D램 최초로 EUV 공정을 적용한 역대 최대 용량의 512GB DDR5 RDIMM, 16GB LPDDR5 모바일 D램, 16GB HBM2E D램(Flashbolt) △512GB UFS 3.1 △0.7μm 픽셀 기반 이미지센서 라인업 등을 전시한다.
삼성전자만의 EUV D램 기술 강점과 PCIe(PCI Express) Gen4 SSD의 전체 라인업이 소개되는 기술 부스도 관전 포인트다.
SK하이닉스는 ‘모든 데이터는 메모리로 통한다(All Data Lead to...
도쿄오카코교는 작년 상반기에 최첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV)용 레지스터를 한국 공장에서 생산하기 시작했고, 간토뎅카코교는 일본에서만 생산하던 반도체 제조용 특수가스 생산을 작년 가을부터 가동한 한국 공장으로 돌렸다. 또 전자기기 부품을 만드는 다이요홀딩스는 반도체 기판에 사용하는 절연필름을 생산하기 위해 한국에 새 회사와 공장을...
SMIC의 공식적인 발표나 EUV(극자외선) 공정을 활용한 7나노 공정 개발 소식이 구체적으로 나오지 않았기 때문이다.
그러나 화웨이에 이어 SMIC가 미국의 제재를 받는 상황 속에서도 이같은 소식이 나오자 반도체 업계는 중국의 반도체 굴기가 여전히 위협적이라고 평가하고 있다.
파운드리 시장 1위인 TSMC는 EUV 장비를 늘리며 1위 다지기에 나섰다. TSMC는...
이재용 삼성전자 부회장은 13일(현지 시간) 네덜란드 에인트호번에 위치한 ASML 본사를 찾아 피터 버닝크(Peter Wennink) 최고경영자(CEO), 마틴 반 덴 브링크(Martin van den Brink) CTO 등을 만나 차세대 반도체 기술 개발을 위한 협력 강화 방안을 논의했다.