한성크린텍, 일본 지포스재팬과 공동 기술개발·장치공급 협력 MOU

반도체산업 실리콘 자원순환 분야 본격 기술개발 나서

▲한성크린텍은 25일 일본 나고야 지포스재팬 본사에서 기술협력 및 장치공급을 위한 양해각서(MOU)를 체결했다. 사진 왼쪽부터 한성크린텍 박성민 기술영업 팀장, 지포스재팬 보노시게키 대표, JELK 권혁익 대표, 한성크린텍 박종운 대표, 손훈진 사업1본부장.(사진제공 =한성크린텍)

한성크린텍은 25일 일본 나고야 지포스재팬 본사에서 기술협력 및 장치공급을 위한 양해각서(MOU)를 체결했다고 밝혔다.

삼성전자와 SK하이닉스, TSMC 등 전 세계 반도체 회사들이 물 부족 위협에 직면한 가운데 초순수 생산기술의 국산화를 진행 중인 한성크린텍이 초고속 원심분리기 기술보유 업체인 일본의 G FORCE JAPAN(지포스재팬)과 공동 기술개발에 나선다.

이번 MOU를 통해 한성크린텍은 각종 산업에서 발생하는 고농도 실리콘 폐수 및 농축수를 재이용 하기 위한 기술을 공동 개발하고, 초고속원심분리기 장치를 우선적으로 국내 시장에 공급할 예정이다.

특히 회수가 어려운 미립자 성분들을 분리하고, 각종 폐액을 고형화해 폐수를 재이용함으로써 물 부족 문제를 개선하고 다양한 분야에 확대 적용할 계획이다. 자원의 선순환 과정을 통해 지속가능한 순환경제 사이클을 만들고 ESG(환경·사회·지배구조) 경영에도 기여하게 된다.

또 초순수 생산에 필요한 요소기술, 폐수 재이용, 실리콘 및 이차전지 폐액 등 재이용을 위한 기술개발을 추진하고 있으며 초순수 전처리 공정에 필요한 활성탄 필터를 대나무 소재로 변경하는 활성탄 생산기술을 확보하고 성능을 추가로 검증 중이다.

박종운 한성크린텍 대표는 "초순수 생산기술이 필요한 첨단 산업 분야에 국산화 기술을 속도감 있게 공급하겠다"며 "소재, 부품, 장비개발에 회사 역량을 총동원하고 있다"고 말했다.

이어 "이번 MOU를 계기로 물 부족에 대비한 폐수 재이용 및 자원 재활용 기술확보 시기가 빨라질 것"이라고 덧붙였다.