[컨콜] SK하이닉스 “EUV, 1bㆍ1c 나노미터에도 적용할 것”

SK하이닉스는 1일 4분기 실적 발표 후 진행된 콘퍼런스콜에서 "당사는 EUV(극자외선 노광장비) 장비의 높은 투자비용과 관련 기술의 성숙이 계속되고 있는 상황을 감안해 EVU 적용의 효율성을 극대화하는데 포커스 해왔고 현재는 업계 최고 수준의 EUV 생산성을 확보했다"고 밝혔다.

그러면서 "EUV 적용을 어디까지, 얼마나 적용한다고 할 수 있는 상황은 아니지만 1b, 1c 나노미터(nm)에서 EUV 적용 개수를 점진적으로 늘려갈 계획”이라며 “공정전환에 따른 EUV 적용 장비 최적화하고 높은 효율성 유지할 계획도 갖고 있다”고 덧붙였다.