[특징주] 삼성전자, 지난해 43.6조 규모 반도체 시설투자 ‘상승세’

삼성전자는 지난해 반도체 시설에 43조6000억 원을 투자했다는 소식에 상승세를 나타냈다.

9일 오전 9시 34분 기준 삼성전자는 전일 대비 1.09%(800원) 오른 7만4300원에 거래되고 있다.

이날 조선비즈 보도에 따르면 지난해 삼성전자의 반도체 분야 시설투자액은 43조6000억 원으로 극자외선(EUV) 기반 15㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) D램, V6 낸드플래시 등 첨단공정이 도입된 평택과 시안 증설 공정 전환에 사용됐다.

이는 삼성전자가 지난해 거둔 매출 94조1600억 원 중 46.3% 규모에 해당한다.

한편 증권가에선 올해 삼성전자의 성장 모멘텀을 기대했다.

김영우 SK증권 연구원은 “삼성전자의 스마트폰(IM)과 소비자가전(CE) 매출액은 올해 300조 원을 돌파할 것으로 기대된다“며 ”단순히 판매만 늘리는 것이 아닌 폴더블 스마트폰 판매 확대, 프리미엄 TV 시장 점유율을 올리며 질적으로 개선될 것”이라고 말했다.

이어 “파운드리도 하반기부터 펠리클 적용에 따른 수율 개선, 획기적인 수익성 향상도 기대할 수 있다”고 덧붙였다.

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