아이피에스, 플라즈마 처리장치 특허 취득

아이피에스는 19일 플라즈마 처리장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

아이피에스 관계자는 "본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 챔버 내부로의 원료가스 공급 시 적절한 혼합과 분산 속도를 가지는 가스 공급수단이 구비된 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다."라고 설명했다.

이어 "본 발명은 가스 공급 수단의 확산부를 통해 외부로부터 공급된 가스가 혼합됨과 동시에 확산되어 챔버 내부로 균일하게 분사됨으로써, 대면적을 갖는 기판의 날림 및 파손을 방지하고 최소 공간을 차지하는 진공챔버를 갖게 하는 효과가 있다"고 덧붙였다.