아이피에스, 가스 가열 장치 관련 특허 취득

아이피에스는 19일 가스 가열 장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

아이피에스 관계자는 "본 발명은 가스 가열 장치에 관한 것으로, 히터가 구비된 원통형 블록의 외주면에 형성된 홈부에 가스가 유동하는 배관이 밀착 구비되고 소정의 위치에 블록의 온도 및 블록을 통해 가열된 배기 가스의 온도를 측정하는 센서가 구비되어, 반도체 제조공정 시 요구되는 가스를 미리 가열하여 챔버 내로 투입함으로서 공정 시 정확한 공정온도를 갖게 하고, 그 결과 반도체 제조공정의 효율을 높일 수 있는 효과가 있다"고 설명했다.

또한 "온도 센서를 통해 히터 및 가열된 가스의 온도제어를 효율적으로 할 수 있어서 반도체 공정 시 사용되는 모든 종류의 가스에 적용할 수 있다."고 덧붙였다.