주성엔지니어링, CVD장치 샤워헤드 관련 특허 취득

주성엔지니어링은 23일 CVD장치의 샤워헤드와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

주성엔지니어링 관계자는 "본 발명은 CVD장치의 샤워헤드에 관한 것으로서 특히 반응챔버 내에 가스를 균일하게 분사할 수 있는 샤워헤드에 관한 것이다"라고 설명했다.

이어 "본 발명에 의하면, 샤워헤드 몸체가 열팽창하더라도 종래와 같이 휘어지지 않기 때문에 기판 전면적에 대하여 균일한 막의 증착이 가능하다. 또한 종래에 비해 동일한 면적에 더 많은 분사공을 형성할 수 있기 때문에 가스분사의 유효면적을 더 크게 할 수 있고, 샤워헤드의 무게도 가볍게 할 수 있다"고 덧붙였다.