코닉시스템, RTCVD 챔버 관련 특허 취득

입력 2006-11-23 14:41

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코닉시스템은 23일 박막증착의 균일도를 향상시킬 수 있는 RTCVD 챔버와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.

코닉시스템 관계자는 "본 발명은 가스의 흐름이 층류를 이루는 경향이 종래에 비하여 덜하기 때문에 기판 전면에 균일한 두께로 막이 형성되고, 챔버의 내측벽이 차단막에 의하여 보호되기 때문에 원하지 않는 박막증착에 의한 파티클 발생을 방지할 수 있음과 동시에 온도상승의 극대화를 이끌어낼 수 있다"고 설명했다.

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