[상보] 삼성전자, 2017년 연간 시설 투자 46조2000억 원…반도체에 29조5000억 원 투입

삼성전자가 2017년 시설 투자 계획을 발표했다.

31일 삼성전자에 따르면 올해 전체 시설투자는 약 46조2000억 원 수준으로 지난해 25조5000억 원 대비 대폭 증가할 것으로 예상된다. 사업별로는 반도체 29조5000억 원 디스플레이 14조1000억 원 수준이다.

3분기 시설투자는 총 10조4000억 원이며 반도체에 7조2000억 원, 디스플레이에 2조7000억 원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9000억 원이 집행됐다.

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중이다.

삼성전자 측은 “4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 것”이라고 설명했다.